该设备集磁控溅射与离子镀膜技术为一体，对提高颜色一致性、沉积速率及化合物成份的稳定性提供了解决方案。根据不同的产品需求，可选配加热系统、偏压系统、离化系统等装置。设备所镀制的膜层具有附着力强，致密性高的优点，可有效提高产品的耐盐雾性、耐磨性及产品表面硬度，满足了高性能膜层制备的需求。
实验型镀膜设备主要用于各大院校及科研单位，可满足多种实验要求；预留多种结构靶位，灵活配置，以满足不同领域的科研开发。可选配磁控溅射系统、阴极电弧系统、电子束蒸发系统、电阻蒸发系统、CVD、PECVD、离子源、偏压系统、加热系统、三维夹具等，客户可根据自身不同需求选配。
设备具有外形美观、结构紧凑、占地面积小、自动化程度高、操作简单灵活、性能稳定、易维护等特点。
设备可适用于不锈钢、水镀五金件/塑胶件、玻璃、陶瓷等材质；可制备单质金属层如钛、铬、银、铜或金属化合物膜层如TiN/TiCN/TiC/TiO2/TiAlN/CrN/ZrN/CrC等；可实现深黑色、炉内金、玫瑰金、仿金、锆金、宝石蓝、亮银色等颜色。
