该设备集磁控溅射与电阻式蒸发镀膜技术为一体，为满足多种不同基材镀膜提供了解决方案。
实验型镀膜设备主要用于各大院校及科研单位，可满足多种实验要求；预留多种结构靶位，灵活配置，以满足不同领域的科研开发。可选配磁控溅射系统、阴极电弧系统、电子束蒸发系统、电阻蒸发系统、CVD、PECVD、离子源、偏压系统、加热系统、三维夹具等，客户可根据自身不同需求选配。
设备具有外形美观、结构紧凑、占地面积小、自动化程度高、操作简单灵活、性能稳定、易维护等特点。
设备可适用于塑胶、不锈钢、水镀五金件/塑胶件、玻璃、陶瓷等材质；可制备单质金属层如钛、铬、银、铜、铝或金属化合物膜层如TiN/TiCN/TiC/TiO2/TiAlN/CrN/ZrN/CrC等。
